FCD 450 气体软氮化的问题

官不全 · 发表于 2017-9-4 22:09:40

今天遇到问题了。
   FCD 450的软氮化，工艺600度，保温时间140min,化合物层9-12u，扩散层0.15mm。今天用工艺600度，保温时间160min，化合物层3-10u，扩散层在0.2mm以上。气氛相同，表面都用砂纸擦拭。
   我现在两个猜想，1，是真的化合物层低了。或者2，是工艺问题导致化合物层太脆？因为我们的检查是直接热镶埋，无特别保护表层的。
   欢迎大家给点意见。

繁华落幕 · 发表于 2017-9-5 08:16:14

请教一下，扩散层深是用什么方法检测的？

liuwu · 发表于 2017-9-5 08:39:35

强渗氮各阶段的时间是怎么安排的？感觉没有问题！2工艺温度提高了那么多！显然扩散层会加深一点，白两层（化合物层）是在氮化过程中的强渗过程产生的！同一材料，要看你强渗时间和温度！

aaron01 · 发表于 2017-9-5 13:48:17

气氛相同，氮势可能并不一样。出现这种情况，很可能是气氛氮势低了。

官不全 · 发表于 2017-9-5 22:58:33

aaron01 发表于 2017-9-5 13:48
气氛相同，氮势可能并不一样。出现这种情况，很可能是气氛氮势低了。

NH3残留都是30%。设备正常时时45%-50%，要到国庆长假才有时间检修。

官不全 · 发表于 2017-9-5 23:00:13

繁华落幕发表于 2017-9-5 08:16
请教一下，扩散层深是用什么方法检测的？

我们是采用硬度法，

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